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材料表面形貌检测(AFM)方案

应用工程师
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    吴工 - Meixiao

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    18501752236(微信同号)

  • 邮箱:

    mx.wu@huatai-thz.com

太赫兹服务
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材料表面形貌(AFM)



AFM:nm级材料表面形貌检测









检测原理


原子力显微镜(Atomic Force Microscope,AFM)原理

        核心工作原理是基于微悬臂探针与样品表面原子间的相互作用力:利用一根探针以光栅线方式扫描样品表面,通过检测探针与样品间相互作用力来表征样品表面特征并获得图像。
        扫描时,样品与探针尖duan的原子相互作用力恒定,探针悬臂将随样品表面形貌而弯曲起伏,反射光也随之偏移,通过检测位置探测器上光斑位置变化的距离换算,就能获得每个点的起伏信息。下方压电扫描器带动样品 XYZ 三轴的移动,不同区域的形貌变化记录到一起,获得完整的三维形貌图片。


                         










方案配置


1. BASIC AFM-OZ 光学变倍原子力显微镜

测量模式
        轻敲模式、接触模式
标准配套
        AFM扫描台、AFM控制器、电脑主机、高清显示器、弹簧悬挂隔振箱
标准配件
        专用探针、样品载台、无尘样品盒、镊子


核心参数
■ XY 扫描zui大范围 60μm×60μm,Z 轴扫描 7.5μm;
■ 分辨率:横向 0.2nm,纵向 0.05nm;
■ 独立工作模式:接触模式、轻敲模式、F-Z 力谱测试;
■ 独立光学系统:0.6~4X 电动连续变倍,200 倍放大,自动调焦;
■ 独立电动样品台:XY 移动行程 25mm,步长 1.25μm,单点精准定位;
■ 独立减震系统:弹簧悬挂避震 + 金属隔音屏蔽箱,内置温湿度独立监测;
■ 独立终端:27 寸 4K 显示屏,配套专用 AFM 形貌采集软件。
■ 图像分析软件:AFM图像面粗糙度、高度尺寸测量。











适用对象


检测对象
■ 晶圆基材:单晶硅、SOI 硅片、碳化硅、氮化镓、砷化镓衬底
■ 薄膜材料:光刻胶、氧化硅介质层、氮化硅、金属铜 / 铝布线、高 K 栅介质
■ 微纳器件:光刻掩膜、微光栅、MEMS 器件、芯片封装基板、焊盘薄膜



先jin制程研发实验室


半导体材料企业


芯片封装测试厂


微电子科研院所


检测评估项目
■ 晶圆 / 薄膜纳米表面形貌定量检测(粗糙度、台阶、划痕、颗粒缺陷)
■ 半导体薄膜次表层空洞、界面脱粘无损筛查
■ 光刻胶、金属布线、钝化膜表面缺陷判定
■ SiC/GaN 宽禁带半导体衬底形貌表征
■ 光刻掩膜、MEMS 微纳光栅三维结构分析







检测流程











标准化建设能力



核心战略:标准引领·价值高地


        我们不仅是技术的践行者,更是行业标准的制定者。通过“主导国标+发布团标+推进ISO”的三级标准战略,构建技术护城河,实现从“卖产品”到“卖标准”的跨越。


标准建设成果



标准层级
标准名称/内容
标准状态
国家标准
《太赫兹时域光谱仪》,标准计划号:20255723-T-604
已立项
《太赫兹散射式扫描近场光学显微镜》,标准计划号:20255721-T-604
已立项
《光学传递函数 第1部分:术语、符号》,标准计划号:20252505-T-604
已报批
《光学传递函数 第2部分:测量导则》,标准计划号:20252504-T-604
已报批
团体标准
《市政井盖信物融合监测系统技术规范》,T/SHFIA 000022-2021
已发布实施
《太赫兹光谱数据库及数据采集处理规范》,T/QGCML 4289-2024
已发布实施
《智能煤质快检系统》,T/CMEEEA 044-2025 已发布实施


实验室CNAS检测+校准能力


        符合ISO/IEC 17025:2017 以及 CNAS 特定认可要求



能力类别
检测对象
可测/校准参数
测量范围
扩展不确定度(k=2)
检测标准/校准规范
检测能力
太赫兹材料
太赫兹特征波长
/
/
Q/AGJ0840-2017 4.5.1
太赫兹材料
光谱透过率
/
/
Q/AGJ0840-2017 4.5.2
太赫兹材料
折射率
/
/
Q/AGJ0840-2017 4.5.3
太赫兹材料
吸收系数
/
/
Q/AGJ0840-2017 4.5.4
太赫兹材料
光谱漫反射比
/
/
Q/AGJ0840-2017 4.5.5
校准和测量能力
太赫兹光谱仪
频率(波长)修正因子 0.1~2.5 THz U_rel=1.2% JJF1603《太赫兹光谱仪校准规范》
太赫兹光谱仪
光谱透射比 0.1~2.5 THz U_rel=12% JJG(军工)284《材料分析用太赫兹光谱仪检定规程》
太赫兹光谱仪
光谱反射比 0.1~2.5 THz U_rel=15% JJG(军工)284《材料分析用太赫兹光谱仪检定规程》
太赫兹光谱仪
动态范围 ≥30dB U_rel=5% JJG(军工)284《材料分析用太赫兹光谱仪检定规程》
太赫兹波长测量仪 波长 400~4000 cm⁻¹ U_rel=2% JJF(军工)183《太赫兹波长测量仪校准规范》
太赫兹源
辐射功率 10μW~200μW U_rel=21% JJF(军工)118《太赫兹源辐射参数校准规范》
太赫兹源
辐射功率 200μW~70mW U_rel=13% JJF(军工)118《太赫兹源辐射参数校准规范》
辐射型太赫兹功率计
功率 10μW~200μW U_rel=21% JJF1600《辐射型太赫兹功率计校准规范》
辐射型太赫兹功率计
功率 200μW~70mW U_rel=13% JJF1600《辐射型太赫兹功率计校准规范》
太赫兹光电探测器
功率 10μW~200μW U_rel=21% JJF(军工)145《太赫兹光电探测器校准规范》
太赫兹光电探测器
功率
200μW~70mW U_rel=13% JJF(军工)145《太赫兹光电探测器校准规范》





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